2021年『曝光奖』正式启动
2021年『曝光奖』于上周正式启动。该奖项设立于2019年，由Modern Eye提供支持，旨在助力那些基于照片或图像进行创作的艺术家，并在观念、技术、方法等层面展开革新。
为了给予画廊及艺术家更多机遇，主办方将在第七届影像上海艺术博览会现场，为『曝光奖』最终获奖方案免费提供一个20平米展位。博览会将于2021年9月23-26日重回上海展览中心。我们希望这一由影像艺术驱动的年度盛会，能切实帮助画廊及艺术家打开新的市场与局面。此外，影像艺术博览会还将通过丰富多彩的线上内容，让『曝光奖』触及更多海内外观众，从而构建广泛的国际影响力。
即日起至五月，欢迎全球画廊提交申请，方案仅限艺术家个展。『曝光奖』鼓励探索影像所能，以呈现真正具有开创性的艺术，尤其是那些携带实验基因，充满反思，并与当代生活密切相关的创作。本届『曝光奖』评审委员会由四位影像艺术行业内的领军人物组成，她们分别是：
曹丹（现代传播集团文化艺术平台Modern Art总裁，兼《艺术新闻/中文版》、《艺术界》、《生活》出版人）；谭雪凝（香港M+博物馆，副策展人）；夏娃·西洛（Eve Schillo，洛杉矶郡立美术馆，Wallis Annenberg摄影部，助理策展人）；丽莎·斯普林格（Lisa Springer，V&A摄影部策展人）。
消息来源：PHOTOFAIRS影像艺术博览会
